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詳細(xì)介紹
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體臥式熱處理設(shè)備
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體臥式熱處理設(shè)備
這是一款高度可靠的熱處理爐,擁有 30 多年的良好記錄??捎糜?00mm硅片的氧化、擴(kuò)散、退火等熱處理。
這是一種臥式爐,用作氧化爐、擴(kuò)散爐和退火爐。
可以在一臺設(shè)備上選擇不同的進(jìn)程。
我們的目標(biāo)是通過使用 3 層或 4 層配置來節(jié)省空間。
5 個區(qū)域加熱器均獨(dú)立控制,可實(shí)現(xiàn)溫度控制,具有出色的熱均勻性和穩(wěn)定性。
配備內(nèi)部控制系統(tǒng),操作簡單可靠。
H83-125和H84-125標(biāo)配船用升降機(jī),可以輕松裝載到上層。
可以進(jìn)行諸如熱解氧化、濕式氧化、干式氧化、使用三氯氧化磷(POCl 3 )和三溴化硼(BBr 3 )的磷擴(kuò)散、硼擴(kuò)散和退火等工藝。
硅片的熱氧化、擴(kuò)散和退火
模型 | H83-50 | H83-125 | H84-125 |
過程 | 氧化、擴(kuò)散、退火 | ||
晶圓直徑 | ~200mm(8英寸) | ||
級數(shù) | 3 | 3 | 4 |
產(chǎn)品晶圓數(shù)量 | 50 | 125 | 125 |
加熱區(qū) | 5 | ||
加熱器材質(zhì) | 鐵鉻鋁 | ||
常用溫度 | 600~1200℃ | ||
浸泡長度 | 370毫米 | 800毫米 | 800毫米 |
溫度均勻 | ±1.0℃ |
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