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日本ULVAC愛發(fā)科半導體光電干法刻蝕設備
簡要描述：

日本ULVAC愛發(fā)科NLD-5700半導體光電干法刻蝕設備
日本ULVAC愛發(fā)科半導體光電干法刻蝕設備

  • 產品型號：NLD-5700
  • 廠商性質：代理商
  • 更新時間：2024-11-25
  • 訪  問  量：281

詳細介紹

日本ULVAC愛發(fā)科半導體光電干法刻蝕設備

日本ULVAC愛發(fā)科半導體光電干法刻蝕設備



用于光電器件和MEMS的
干法刻蝕設備NLD-5700

用于光器件和MEMS的NLD-5700干法刻蝕系統是配備磁中性線等離子體（NLD）源的用于大規(guī)模生產的干法刻蝕系統。 （采用磁中性線等離子體（NLD）的低壓、低電子溫度、高密度等離子體的干式蝕刻設備，由ULVAC原創(chuàng)開發(fā)。）


特征

  • 通過在潔凈室內工作，潔凈室可以擴展到兩個房間（NLD、磁場ICP、CCP和灰化室）。

  • NLD是一種可以在空間和時間上控制的等離子體，因此干洗很容易。

  • 實現輕松的腔室維護。

  • 我們提供從掩模蝕刻到石英和玻璃蝕刻的工藝解決方案。

  • 半導體技術研究院提供完善的工藝支持系統。

用途

  • 光學器件（衍射光柵、調制器、光波導、光開關等）、不均勻微透鏡。

  • 流體路徑創(chuàng)建 (μ-TAS) 和光子晶體。


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