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日本ULVAC愛發(fā)科半導設備化學氣相沉積設備
簡要描述：

日本ULVAC愛發(fā)科CME-200E/400半導設備化學氣相沉積設備
日本ULVAC愛發(fā)科半導設備化學氣相沉積設備

  • 產品型號：CME-200E/400
  • 廠商性質：代理商
  • 更新時間：2024-11-25
  • 訪  問  量：238

詳細介紹

日本ULVAC愛發(fā)科半導設備化學氣相沉積設備

日本ULVAC愛發(fā)科半導設備化學氣相沉積設備


單片PE-CVD設備CME-200E/400

單片式PE-CVD設備CME-200E/400是適合批量生產的PE-CVD設備，適合形成硅基絕緣膜、阻擋膜等。


特征

  • 27.12MHz高密度等離子工藝

  • SiH 4型：SiO 2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS 型：可提供 SiO 2薄膜

  • 可使用NF 3 +Ar 等離子體清潔腔室

  • 可配備用于有機EL低溫成膜的加熱器

  • 通過托盤傳送支持最大尺寸為□200mm的電路板（CME-200E）（支持CME-400：300×400）

目的

  • 功率器件

  • LED、LD、高速器件

  • 有機EL

  • 太陽能電池

  • 微機電系統

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