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詳細介紹
半導體設(shè)備日本理學Rigaku熒光射線分析儀
半導體設(shè)備日本理學Rigaku熒光射線分析儀
通過為頂部照明型 ZSX Primus IV 和底部照明型 ZSX Primus IVi 創(chuàng)建通用的硬件和軟件平臺,可以在兩個型號之間以及同一型號之間輕松共享應(yīng)用程序。
SQX分析是利用定性分析結(jié)果進行定量分析的無標準FP分析。
?評估重元素產(chǎn)生的高次譜線的影響,自動選擇最佳測量條件,實現(xiàn)更準確的SQX分析
?新增恒定角度測量設(shè)置模式,可在EZ掃描中檢測微量元素
?EZ配備超高速需要不到 2 分鐘測量時間的掃描模式
- 支持多層薄膜樣品的篩選分析
- 任何樣品薄膜都可以添加樣品薄膜校正
- SQX 散射線 FP 分析(針對粉末和聚合物)現(xiàn)在直徑為 30 毫米兼容
- 重新計算 SQX 時可以更改為 SQX 散射線 FP 分析
通過在樣品室和光譜室之間添加真空隔板,可以縮短更換氦氣氛所需的時間。此外,通過增加液體樣品保持器檢測機構(gòu),將液體樣品引入真空氣氛中不會出現(xiàn)錯誤,并且可以放心地進行測量。
氣體保護型檢測器在分析過程中產(chǎn)生零氣體排放。 探測器無需安裝氣瓶。
通過采用r-θ驅(qū)動樣品臺,X射線強度不會因測量點而變化,并且映射位置分辨率為100μm,可以分析印刷電路板上的布線等微小部件,各種材料中的夾雜物是。
產(chǎn)品名稱 | ZSX Primus IVi | |
---|---|---|
方法 | 波長色散射線熒光分析 (WDXRF) | |
目的 | 固體、液體、粉末、合金和薄膜的元素分析 | |
技術(shù) | 掃描波長色散 X 射線熒光分析 (WDXRF) | |
主要部件 | Rh 目標 4kW 或 3kW,樣品交換器最多 60 個樣品 | |
主要選項 | He替代、r-θ驅(qū)動樣品臺、點/映射分析、樣品觀察機制 | |
控制(電腦) | 外部 PC、MS Windows® 操作系統(tǒng)、ZSX 指導軟件 | |
機身尺寸 | 840(寬)×1250(高)×980(深)毫米 | |
體重(身體) | 500公斤 | |
電源 | 三相200V,40A,50/60Hz |
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